Webinar: SIMS dinâmico para implantes iônicos: conceitos fundamentais e aplicações

Um webinar co-organizado por Carina Gill, da Loughborough Surface Analysis Ltd, e pela CAMECA explora a relevância duradoura dos implantes iônicos na análise dinâmica por SIMS — uma técnica essencial na fabricação de semicondutores há mais de cinco décadas.

A sessão apresenta os princípios por trás da caracterização por implantes iônicos e demonstra como esses implantes são usados para quantificar concentrações desconhecidas em materiais, garantindo precisão em todas as etapas da produção.

À medida que a tecnologia SIMS continua a evoluir, este webinar destacará a importância de dominar as técnicas fundamentais para aproveitar ao máximo a espectrometria de massa de alta resolução na análise avançada de materiais.

• SIMS na Fabricação de Semicondutores: Entenda como o SIMS dinâmico é aplicado em todo o processo de produção — desde wafers brutos até dispositivos acabados — para detectar todas as faixas de massa, incluindo níveis de contaminação por traços (ppb).
• Técnicas Analíticas em Evolução: Explore como as metodologias SIMS avançaram ao longo do tempo, enquanto o uso de implantes iônicos para quantificação permaneceu constante por mais de 50 anos.
• Quantificação por Implante Iônico: Aprenda a usar um implante iônico para quantificar concentrações desconhecidas no mesmo material — uma técnica essencial na análise dinâmica de SIMS.
• Armadilhas Comuns a Evitar: Identifique erros frequentes na implantação iônica e descubra as melhores práticas para garantir resultados precisos e confiáveis.