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AKONIS

SIMS totalmente automatizado para fabricação de semicondutores em alto volume

A ferramenta AKONIS SIMS preenche uma lacuna crítica nos processos de fabricação de semicondutores, fornecendo alto rendimento, detecção de alta precisão para perfis de implantes, análise de composição e dados interfaciais, todos necessários para produção em alto volume. AKONIS oferece um altíssimo nível de automação para garantir repetibilidade entre as ferramentas para o controle de processo de nível de fabricação, bem como correspondência de ferramenta a ferramenta.

  • AKONIS: SIMS, excelência levada para a fabricação! +


    Complemento para o IMS Wf/SC Ultra e o SIMS 4550 (quadrupolo SIMS) usado para dar suporte à indústria de semicondutores por meio de laboratórios de caracterização, o AKONIS – com automação completa das rotinas de configuração e aquisição de instrumentos – permite análises rápidas dentro da fábrica sem comprometer a sensibilidade analítica. O AKONIS se beneficia do desenvolvimento recente da tecnologia de coluna iônica EXLIE (Extremely Low Impact Energy) (<150 eV), juntamente com um sistema completo de manuseio de wafer, que inclui um estágio de alta resolução e permite medições em contatos de até 20 μm.

    O capacitador de alto rendimento em N5 e além

    Composição de alta resolução e perfilamento rápido de profundidade de dopante de pilhas multicamadas de SiGe e SiP
    Inigualável nos limites de detecção de contatos de até 20 μm
    Redução de mais de 97% do tempo nos dados de feedback para a linha de processo
    Medição de manta e wafer completo padronizado
    Motor de reconhecimento de padrões acoplado ao estágio interferométrico de alta resolução para uma precisão de posição < 2 μm
    Criação intuitiva de receita com base em banco de dados de material exclusivo
    Certificado SEMI (S2/S8, E4, E5, E39, E84...)
    Baixo custo de propriedade
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    • Dynamic SIMS for Semiconductors

      quinta-feira, setembro 16, 2021

      A review of a broad array of IC applications with Dynamic SIMS, from deep to ultra-shallow implant depth profiling in Si-based semiconductors to compositional analysis of thin multilayers in patterned wafer pads, optoelectronics, 2D and non-planar 3D structures. Speaker: Pawel Michałowski, expert-user of CAMECA SC Ultra SIMS at Łukasiewicz Research Network – Institute of Microelectronics and Photonics, Poland
      Duration : 20 minutes
      Click here to view
  • Documentação +

  • Publicações científicas +


    Abaixo está uma seleção de artigos de pesquisa de usuários da CAMECA AKONIS
    Você está convidado a nos enviar quaisquer referências, pdf e suplementos que estejam faltando!
    Envie um e-mail para cameca.info@ametek.com

    Etching monitoring of advanced forksheet devices using AKONIS SIMS tool.
    A-S. Robbes, O. Dulac, K. Soulard, M. Adier, S. Choi, D. Jacobson, A. Merkulov, R. Tilmann, P.A.W. van der Heide and A. Franquet. ISTFA Proceedings (2024)
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    AKONIS—SIMS Excellence Brought To The Fab. AS. Robbes; O. Dulac; K. Soulard; R. Liu; S. Choi; B. Salle; D. Jacobson. (2022). Conference Proceedings. Paper No: istfa2022p0396, pp. 396-397; 2 pages
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